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难道是信息密度不够?
但按照他之前的经验,如果是强相关的知识,对“降价”
的加成还是挺大的,不应该一点反应都没有。
哪怕有0.001,也算是正常情况吧。
或者……是需要应用?
想到这里,陈念思索了片刻,重新拿起笔开始在纸上写字。
“单晶炉技术要点1:由于杂质可导致孪晶、嵌晶、孔洞、夹杂物、氢致缺陷、COP等缺陷,所以单晶炉内部清洁极为重要,需要保证主炉室、隔离阀、副炉室气密性,在目前技术条件下,可以选择用过氟橡胶进行真空密封……”
“单晶炉技术要点2:单晶生长过程中如果热场温度梯度过大,晶体中产生较大热应力,则会导致晶体内部发生位错缺陷,并使其增殖。为避免此类情况,单晶炉可以选用双筒法兰结构,通水冷却,并最好使用隔水条,保证冷却均匀……”
“单晶炉技术要点3:微缺陷发生的原因是……”
陈念一边思考一边写,这些信息可就不是系统解析来的了,而是他根据之前的学习,包括在制造新材料时掌握的经验一点点推出来的。
其中关于真空密封的部分属于老生常谈,但双筒法兰结构+隔水条冷却,则是他自己考虑后认为最合适的处理方式。
也就是说,这是他的原创设计。
但当然,这样的设计只是一个想法,或者说一个方向,远远达不到能画出结构图输出到应用阶段的要求。
陈念也不打算这么去做,因为复杂的数值推演、数值调整实在是太花时间了,还不如直接解析的费效比高。
省下来的时间用来学习和实验,带来的源点数量收益反而会更高。
就是不知道只做到这一步的话能不能降低一点源点需求……哪怕0.01点也好啊。
这么想着,陈念打开了系统界面,重新扫描单晶炉,先要看看最新的源点消耗。
而当那个数字呈现在他面前时,他几乎乐得从椅子上跳了起来。
原本2.9的源点数量需求,已经变成了2.72!
也就是说,自己写出来的一条技术要点,平均每一条有用的,就降低了0.06点的源点需求!
这要是能把自己掌握的所有知识点都推理到应用上,岂不是有机会直接把源点消耗干成0?
赶紧上手!
陈念立刻起身,从书架上拿下来两本书。
一本《半导体硅材料基础》。
一本《机械制造技术基础》。
他一边从硅材料的教材中汲取自己所需要的理论,一边尝试把自己的想法付诸实际、用可制造的设备去实现。
这样的推理当然是极为粗陋、极不准确、甚至有可能是错误的。
();() 但是,拦不住他有挂啊!
一个应用设计有没有用,看一眼源点消耗数量有没有变化就一目了然了!
花了不到二十分钟,他就推理出了第四条有用的设计方向,又带来了0.05个源点的“降价”
。
好家伙,还真有戏啊。
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